第一零一九章 又近了一步

第一零一九章 又近了一步 (第2/2页)

arf准分子激光器的制造成功，对bsec也是一次技术实力和制造能力的检阅。
　　
　　如今，邓国辉院长和钱富强助理带领光刻机光源研究所，正在研发arfi准分子激光器，重生者寄希望五年左右实行弯道超车。
　　
　　bsec还没有研发成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机，而nikon和gca已经先后研发成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，正在研发8英寸晶圆和250nm制程工艺，对方淘汰的专利技术还是bsec正在研发的，技术实力相差太大，邓院士等人生出一股无力感。
　　
　　不是重生者指引方向，bsec研制成功全球唯一的磁悬浮式双工作台系统，在全球光刻机行业说话的资格都没有。
　　
　　bsec如今使用的arf准分子激光器专利技术属于gca，按照双方签订的专利技术转让协定，即使bsec研制成功arfi准分子激光器，专利技术也属于gca，但浸没式光刻系统专利技术属于bsec。
　　
　　就像gca研制成功多项磁悬浮式双工作台系统专利技术也属于bsec。
　　
　　一旦bsec研制成功arfi准分子激光器，即使瓦s纳协定出台，美国就不能在arfi准分子激光器上卡bsec的脖子，除非gca也不用磁悬浮式双工作台系统专利技术和浸没式光刻系统专利技术。
　　
　　虽然tic持有zeisssmtag四成的股权，bsec如今也能买到zeisssmtag生产的1um、800nm、500nm，甚至350nm制程工艺的光刻机光学系统，但随着瓦s纳协定出台，zeisssmtag到时也不敢供应bsec最先进的光刻机光学系统，未雨绸缪，重生者希望bsec光刻机光学系统研究所在副院长兼所长陈伟长的率领下，尽早的攻克1um制程工艺的光刻机光学系统，到时，bsec就有了立身之本。
　　
　　国内将是全球最大的电器、电脑和通讯等产品的制造中心和最大的市场，6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机在国内还有很大的市场。
　　
　　在光刻机三大核心技术中，bsec的光刻机光学系统相对最弱，陈伟长在全球范围内高薪招聘光刻机光学系统方面的高端人才。
　　
　　自从gca重新登顶光刻机世界之巅，全球多家半导体设备和晶圆公司预定了25台gca3500b，产品供不应求，投资者也蜂拥而至，gca昨天收盘5.41美元，1.5美元参与定向增发的机构投资者赚得盆满钵满。
　　
　　gca一旦率先研制成功250nm制程工艺的光刻机，股价超过10美元都不是梦。
　　
　　gca光刻机光源研究所如今有94人，超过鼎盛时期的人数，近七成是博士，人才济济，光刻机半导体研究院院长兼光源研究所所长古特雷斯院士还在全球范围内高薪引进高端研发人才。